热压法:把铟粉末在高温和高压下压制成型,能够提高靶材的致密度和机械强度,同时有助于减少气孔和其他缺陷。
冷等静压法:利用液压介质在室温下对铟粉末施加均匀压力使其成型,可制造出高密度和均匀性的靶材,但需要后续的烧结处理来提高其机械性能。
半导体领域:纯铟在半导体中用作薄膜层,铟靶材可用于制造高速电动机的轴承涂层,使润滑油均匀分布,还可用于半导体器件的制造,如集成电路、芯片等。
显示领域:广泛应用于液晶显示器(LCD)、有机发光二极管显示器(OLED)等显示器件的制造,用于形成透明导电薄膜,提高显示器的性能和质量。
存储环境控制
温湿度:存储于干燥、恒温环境(温度 15~25℃,湿度≤40% RH),避免铟靶吸潮氧化(铟在潮湿空气中易生成 In₂O₃薄膜,影响溅射效率)。
防尘防潮:用铝箔或真空袋密封包装,存放于洁净柜中,防止灰尘附着或与其他化学物质接触。